CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備， 傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學， 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點：

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

◆  PLC 工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

◆  石英真空艙，真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。

◆  采用質(zhì)量流量計，實現(xiàn)對氣體輸入精準控制，改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準確問題。

◆  HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

◆  60 度傾角操作界面設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。

◆  頂置真空艙，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關方式，開關蓋方便。

◆  采用花灑式多孔進氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

◆  上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設計，符合人體功能學，操作更方便。

◆  有效清洗面積大，可清洗最大直徑 8 吋硅片。

◆  安全保護，艙門打開，自動關閉電源。

技術(shù)參數(shù)：